[发明专利]等离子体处理装置及方法有效
| 申请号： | 201310451516.3 | 申请日： | 2013-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN103715051A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 哈鲁琼·米利克扬;具一教;成晓星;李守真;金炫中 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 韩国忠淸南道天*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子处理装置。等离子体处理装置，包括：在内部形成空间的腔室；位于所述腔室内并支承基板的基板支承单元；向所述腔室内供给工艺气体的气体供给单元；位于所述腔室的上部并具有提供从所述工艺气体产生等离子体的电磁波的天线的等离子体源单元；位于所述天线的上部使从所述天线向所述腔室的相反方向提供的电磁波反射到朝向所述腔室的方向的反射板；以及使所述反射板的位置移动的反射板驱动部。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，包括：腔室，在内部形成空间；基板支承单元，位于所述腔室内并支承基板；气体供给单元，向所述腔室内供给工艺气体；等离子体源单元，位于所述腔室的上部，并具有提供使所述工艺气体产生等离子体的电磁波的天线；反射板，位于所述天线的上部，将从所述天线向所述腔室的相反方向提供的电磁波朝向所述腔室的方向进行反射；以及反射板驱动部，使所述反射板的位置移动。
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