[发明专利]各向异性镀敷方法以及薄膜线圈有效
| 申请号： | 201310435022.6 | 申请日： | 2013-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN103695972A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 上岛聪史;太田尚志;铃木将典;出口友季 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | C25D3/38 | 分类号： | C25D3/38;H01F41/04 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够可靠地形成纵横比高且非常狭窄的间距的线和间隔图形的各向异性镀敷方法以及薄膜线圈。在施加电流来形成涂膜的各向异性镀敷方法中，一边由镀敷液（21）的搅拌部分地破坏在镀敷形成用的电极膜或者形成于该电极膜的表面的涂膜的表面产生的镀敷液（21）的金属离子稀薄层（17）中的、存在于想要选择性地镀敷成长的方向上的该金属离子稀薄层（17）一边形成涂膜。 | ||
| 搜索关键词： | 各向异性 方法 以及 薄膜 线圈 | ||
【主权项】：
一种各向异性镀敷方法，其特征在于：是施加电流来形成涂膜的各向异性镀敷方法，一边由镀敷液的搅拌部分地破坏在镀敷形成用的金属膜或者形成于该金属膜的表面的所述涂膜的表面产生的所述镀敷液的金属离子稀薄层中的、存在于想要选择性地镀敷成长的方向上的该金属离子稀薄层一边形成所述涂膜。
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