[发明专利]用于蚀刻腔室部件的填充聚合物组成在审
| 申请号： | 201310432769.6 | 申请日： | 2009-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN103497457A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 詹尼弗·Y·孙;段仁官;赛恩·撒奇;徐理 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C08L27/12 | 分类号： | C08L27/12;C08L79/08;C08L71/10;C08L83/04;C08L33/00;C08K3/22;C08K3/16;C08K3/28;C08K3/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于蚀刻腔室部件的填充聚合物组成。本发明揭示了一种具有改良抗等离子体性的填充聚合物组成。该组成包括分散于聚合物基质的粒子填充料。该粒子填充料可为五氧化二铌（Nb2O3）、三氟化钇（YF3）、氮化铝（AlN）、碳化硅（SiC）或四氮化三硅（Si3N4）及稀土族元素氧化物（rare earth oxide）。在实施例中，利用该组成作为用于静电夹头的接合粘合剂，用于喷头的接合粘合剂，用于衬垫的接合粘合剂、密封材料、O形环、或塑料部件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 部件 填充 聚合物 组成 | ||
【主权项】：
一种腔室部件，包含：O形环，所述O形环包含：聚合物基质和粒子填充料，所述粒子填充料分散于所述聚合物基质中，所述粒子填充料选自由Nb2O3、YF3、AlN、Al、SiC、Si3N4、稀土族元素氧化物、以及上述物质的组合所组成的群组。
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