[发明专利]一种双步消逝场耦合的雪崩光电探测器有效

专利信息
申请号: 201310406865.3 申请日: 2013-09-09
公开(公告)号: CN103489953A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 崔荣;杨晓红;李彬;尹伟红;吕倩倩;韩勤 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0232
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种双步消逝场耦合的雪崩光电探测器(APD),该雪崩光电探测器包括:衬底;形成于衬底之上的单模传输光波导,用于实现匹配光斑在其中低损耗单模传输,并使光渐渐向上消逝场耦合进入光匹配层;形成于单模传输光波导之上的光匹配层,用于实现光功率从单模传输光波导高效率消逝场耦合到APD吸收层中,并将光限制在APD吸收层中被完全吸收;以及形成于光匹配层之上的APD台面,采用分离吸收电荷倍增区的结构,与波导结构集成可实现高速高响应度的光探测。本发明通过将具有内部增益以及高灵敏度的APD与消逝场耦合的单模波导结构集成,解决了普通探测器光损耗大、灵敏度低、响应度与带宽相互制约以及不利于片上光互连等问题。
搜索关键词: 一种 消逝 耦合 雪崩 光电 探测器
【主权项】:
一种双步消逝场耦合的雪崩光电探测器,其特征在于,该雪崩光电探测器包括:衬底(1);形成于衬底(1)之上的单模传输光波导(2),用于实现匹配光斑在其中低损耗单模传输,并使光渐渐向上消逝场耦合进入光匹配层;形成于单模传输光波导(2)之上的光匹配层,用于实现光功率从单模传输光波导高效率消逝场耦合到APD台面的吸收层中,即双步消逝场耦合,并将光限制在APD台面的吸收层中被完全吸收;以及形成于光匹配层之上的APD台面,采用分离吸收电荷倍增区的结构,与波导结构集成可实现高速高响应度的光探测。
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