[发明专利]一种针对熔石英光学元件进行抛光的方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201310402129.0 申请日: 2013-09-06
公开(公告)号: CN103465114A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 刘卫国;惠迎雪;程媛;郭忠达;陈智利;阳志强;朱学亮 申请(专利权)人: 西安工业大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 黄秦芳
地址: 710032 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及到一种针对熔石英光学元件进行抛光的方法及其装置。本发明提供的技术方案是:一种针对熔石英光学元件进行抛光的方法,是利用非活性的气体电弧放电产生高温等离子体,在气压和管壁冷压缩效应作用下,等离子弧焰体集束聚焦于工件表面,使与焰体作用区域的熔石英表面温度急剧升高至熔石英材料的熔点,熔融态的石英在静张力作用下局部流平,达到抛光作用;所使用的装置,包括等电弧等离子体炬射流喷枪、六轴联动机械手及其控制系统、排气系统、光学减震平台、电弧等离子体发生器和样品台。主要优点是:保证材料表面面型在整个抛亮过程中不劣化,可将中大口径复杂面型超光滑光学元件的加工周期缩短四分之一以上。
搜索关键词: 一种 针对 石英 光学 元件 进行 抛光 方法 及其 装置
【主权项】:
一种针对熔石英光学元件进行抛光的方法,是利用非活性的气体电弧放电产生高温等离子体,在气压和管壁冷压缩效应作用下,等离子体炬焰体集束聚焦于工件表面,使与焰体作用区域的熔石英表面温度急剧升高至熔石英材料的熔点,熔融态的石英在静张力作用下局部流平,达到抛光作用。
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