[发明专利]厚膜负性光致抗蚀剂剥离剂组成成分有效
| 申请号： | 201310382409.X | 申请日： | 2013-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN103676502B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 姜荣汉;朴永真;李相大;柳炫圭 | 申请（专利权）人： | 易安爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 蔡晓红 |
| 地址： | 韩国首尔市*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种由1‑5wt%的化学式（1）所标示的化合物、70‑95wt%的极性有机溶媒、0.1‑5wt%的四甲基氢氧化铵类化合物，以及水构成的光致抗蚀剂剥离剂。通过上述结果可知，本发明光致抗蚀剂剥离剂组成成分不含防腐剂，含有适量的化学式（1）所示化合物，即使在短时间内剥离，也能够有效清除厚膜光致抗蚀剂。本发明与其他工艺相比，能够在相对较高的工程温度下进行，确保剥离工艺中成分变化最小化。另外，本发明不含有防腐剂，所以可避免因吸附非水溶性防腐剂造成的蒸发不良等后续工艺出现的问题，防止电极损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 防腐剂 光致抗蚀剂剥离剂 负性光致抗蚀剂 厚膜光致抗蚀剂 四甲基氢氧化铵 剥离工艺 成分变化 电极损伤 非水溶性 后续工艺 类化合物 有机溶媒 剥离剂 最小化 厚膜 吸附 标示 蒸发 剥离 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂剥离剂，其特征在于，由1-X wt％，其中X小于5，的化学式(1)所标示的化合物、70-95wt％的极性有机溶媒、0.1-5wt％的四甲基氢氧化铵类化合物，以及水构成：
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