[发明专利]基于紫外线的清洗方法及清洗装置有效
| 申请号： | 201310372881.5 | 申请日： | 2013-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN103406302A | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 姚江波;李春良 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/02 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于紫外线的清洗方法及清洗装置，所述方法包括：步骤1、对待清洗基板进行紫外线照射，并控制该紫外线的输出能量，以控制在照射时间内待清洗基板上的TFT元器件图形吸收到的光子能量小于TFT元器件图形击穿所需要的电子激发电量；步骤2、采用碱性溶液对该待清洗基板进行清洗；步骤3、采用水气二流体对该待清洗基板进行清洗；步骤4、采用去离子水对该待清洗基板进行清洗；步骤5、对该待清洗基板进行风刀干燥；步骤6、对该待清洗基板进行去水干燥，完成清洗，提高了产品良率及洗净度。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 紫外线 清洗 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基于紫外线的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、对待清洗基板进行紫外线照射，并控制该紫外线的输出能量，以控制在照射时间内待清洗基板上的TFT元器件图形吸收到的光子能量小于TFT元器件图形击穿所需要的电子激发电量；步骤2、采用碱性溶液对该待清洗基板进行清洗；步骤3、采用水气二流体对该待清洗基板进行清洗；步骤4、采用去离子水对该待清洗基板进行清洗；步骤5、对该待清洗基板进行风刀干燥；步骤6、对该待清洗基板进行去水干燥，完成清洗。
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