[发明专利]射频装置封装及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310363249.4 申请日: 2013-08-20
公开(公告)号: CN103681627A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 杨明宗;洪建州;李东兴;黄伟哲;黄裕华 申请(专利权)人: 联发科技股份有限公司
主分类号: H01L23/58 分类号: H01L23/58;H01L21/768
代理公司: 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 代理人: 白华胜;段晓玲
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种射频装置封装及其制造方法。该射频装置封装包括基座;以及射频装置芯片,固接于该基座上,其中该射频装置芯片包括半导体基底,该半导体基底具有前侧和后侧;射频构件,设置于该半导体基底的该前侧;互连结构,设置于该射频构件上,其中该互连结构电性连接至该射频构件,且该半导体基底的厚度小于该互连结构的厚度;通孔,从该半导体基底的该后侧穿过该半导体基底形成,且连接至该互连结构;以及硅通孔结构,设置于该通孔内。本发明所提出的射频装置封装及其制造方法,可改善射频装置的RF损失和低线性度等缺点。
搜索关键词: 射频 装置 封装 及其 制造 方法
【主权项】:
一种射频装置封装,其特征在于,包括:基座;以及射频装置芯片,固接于该基座上,其中该射频装置芯片包括:半导体基底,具有前侧和后侧;射频构件,设置于该半导体基底的该前侧;互连结构,设置于该射频构件上,其中该互连结构电性连接至该射频构件,且该半导体基底的厚度小于该互连结构的厚度;通孔,从该半导体基底的该后侧穿过该半导体基底形成,且连接至该互连结构;以及硅通孔结构,设置于该通孔内。
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