[发明专利]气体通道及进气装置

摘要

本发明公开了一种气体通道及包括所述气体通道的进气装置，所述气体通道连通MOCVD的进气装置的气体腔和进气装置下方的反应区域，使得所述气体通道包括第一部分及与第一部分相连接的第二部分，气体自气体腔经过第一部分流向第二部分并且经过第二部分的出气口流向所述反应区域，所述第二部分沿气体流动方向，其截面尺寸增大。这种气体通道具有的逐渐扩张的结构，能够使得反应气体自上方向下流动的路径延长，并且降低了出气口的气体流速，从而提高了气体的分解率和利用率。

主权项

一种用于MOCVD工艺的气体通道，所述气体通道连通MOCVD的进气装置的气体腔和进气装置下方的反应区域，其特征在于，所述气体通道包括第一部分及与第一部分相连接的第二部分，气体自气体腔经过第一部分流向第二部分并且经过第二部分的出气口流向所述反应区域，所述第二部分沿气体流动方向，其截面尺寸增大。