[发明专利]一种曝光方法及其曝光装置

摘要

本发明公开一种曝光装置，用于在基底上曝光图形，包括一激光器，用于提供曝光光源；一光源调整模块，用于调整该曝光光源；一空间光调制器，用于将该曝光光源调制成一图形；一物镜，用于将该图形成像至该基底；一工件台，用于支撑并驱动该基底运动；以及一同步控制单元，用于同步控制该工件台、空间光调制器以及该激光器。本发明同时公开一种曝光方法。

主权项

一种曝光方法，使用一种曝光装置，用于在基底上曝光图形，所述曝光装置包括：一激光器，用于提供曝光光源；一光源调整模块，用于调整所述曝光光源；一空间光调制器，用于将所述曝光光源调制成一图形；一物镜，用于将所述图形成像至所述基底；一工件台，用于支撑并驱动所述基底运动；以及一同步控制单元，用于同步控制所述工件台、空间光调制器以及所述激光器；其特征在于，所述曝光方法包括：步骤1、加载掩模数据，根据空间光调制器曝光视场沿扫描方向的宽度，将基底上各个曝光视场的数据拆分为若干个曝光条；步骤2、将每一曝光条的图形转换为灰度图以获像方栅格内的曝光剂量分布；步骤3、将步骤2中所获得的灰度图转换为若干二值化图形序列进行存储；步骤4、使脉冲激光、所述图形序列和承载基底的工件台同步工作并曝光。