[发明专利]大高径比辐射环的取向压制装置及压制方法有效
| 申请号： | 201310344454.6 | 申请日： | 2013-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN103567439A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 郝忠彬;吴美浩;洪群峰;王成胜;黎龙贵 | 申请（专利权）人： | 浙江东阳东磁有限公司 |
| 主分类号： | B22F3/03 | 分类号： | B22F3/03;B22F5/10;H01F7/02 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 尉伟敏 |
| 地址： | 322118 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种大高径比辐射环的取向压制装置及压制方法，所述取向压制装置设于压机的支架上，所述压机包括上压制缸、下压制缸、支架和控制器；所述取向压制装置包括由不导磁材料制成的下阴模和设于下阴模上的由导磁材料制成的上阴模，上、下阴模上设有相对应的圆柱形空腔；所述上压制缸上设有上压头，上压头下表面上设有上励磁线圈，上励磁线圈内设有与上压头下表面相连接的上芯铁；上芯铁上设有管状上冲头，上冲头内设有可相对于上冲头上下移动的上芯棒。本发明具有可制成内禀矫顽力高、开裂少、抗弯强度高、大高径比、磁性能稳定、均匀性好的辐射环的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 大高径 辐射 取向 压制 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种大高径比辐射环的取向压制装置，其特征是，所述取向压制装置设于压机的支架上，所述压机包括上压制缸、下压制缸、支架和控制器；所述取向压制装置包括由不导磁材料制成的下阴模（1）和设于下阴模上的由导磁材料制成的上阴模（2），上、下阴模上设有相对应的圆柱形空腔；所述上压制缸上设有上压头（3），上压头下表面上设有上励磁线圈（4），上励磁线圈内设有与上压头下表面相连接的上芯铁（5）；上芯铁上设有管状上冲头（6），上冲头内设有可相对于上冲头上下移动的上芯棒（7）；所述支架上设有下励磁线圈（8）和由不导磁材料制成的阴模支撑块（9）；阴模支撑块位于下励磁线圈内，下阴模位于阴模支撑块上，阴模支撑块上设有与圆柱形空腔相对应的下空腔（16）； 所述下压制缸上设有下压头（10），下压头上设有用于穿入下空腔内的管状下冲头（11），下冲头内设有下芯棒（12）；控制器分别与压机和励磁线圈电连接。
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