[发明专利]一种宽光谱偏振无关透射式光栅及其制备方法有效
| 申请号： | 201310342455.7 | 申请日： | 2013-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN103364857A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 孔伟金;云茂金;滕冰;刘均海;王淑华;由成龙;李婧晨 | 申请（专利权）人： | 青岛大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 青岛高晓专利事务所 37104 | 代理人： | 张世功 |
| 地址： | 266071 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属于衍射光栅技术领域，涉及一种宽光谱偏振无关透射式光栅及其制备方法，利用严格耦合波理论进行优化设计的光栅从下至上依次包括石英材料的基底和表面浮雕结构，表面浮雕结构刻蚀在基底上，光栅周期为400-420纳米，刻蚀深度为300-340纳米，占空比为0.18-0.22，入射角度为45°，制备包括光刻胶涂布、全息曝光、显影、离子束刻蚀和清洁处理五个步骤；其结构简单，衍射效率高，制备成本低，适用范围广，在啁啾脉冲放大系统中具有重要的应用价值，对改善宽光谱高衍射效率透射式光栅的性能具有重要的指导作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 偏振 无关 透射 光栅 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种宽光谱偏振无关透射式光栅，其特征在于利用严格耦合波理论进行优化设计的光栅从下至上依次包括石英材料的基底和表面浮雕结构，表面浮雕结构刻蚀在基底上；光栅周期为400‑420纳米，刻蚀深度为300‑340纳米，占空比为0.18‑0.22，入射角度为45°；水平极化波和垂直极化波的透射0级衍射效率在1000nm‑1100nm范围大于98%，水平极化波和垂直极化波的透射0级衍射效率差值小于0.1%。
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