[发明专利]用于光刻设备的真空声噪隔离系统有效
| 申请号： | 201310334088.6 | 申请日： | 2013-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN104345575B | 公开（公告）日： | 2017-12-29 |
| 发明（设计）人： | 吴飞;钟亮;彭巍;王茜;俞芸;王璟 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于光刻设备的真空声噪隔离系统，其特征在于，包括一真空腔体，该真空腔体内至少包括该光刻设备的掩模、投影物镜及工件；一真空执行装置，用于对该真空腔体进行抽气；一真空检测装置，用于实时监控该真空腔的真空度；一形状记忆合金金属密封圈，用于密封该真空腔体。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 真空 隔离 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的真空声噪隔离系统，其特征在于，包括：一真空腔体，所述真空腔体内至少包括所述光刻设备的掩模、投影物镜及工件；一真空执行装置，用于对所述真空腔体进行抽气；一真空检测装置，用于实时监控所述真空腔体的真空度，所述真空检测装置包括真空规和检漏仪；一形状记忆合金金属密封圈，用于密封所述真空腔体；还包括反馈控制系统，所述反馈控制系统包括传感装置、控制装置、执行装置及控制流程，所述传感装置包括声噪传感器和真空规，所述声噪传感器实时测量所述真空腔体内部声噪，程序算法根据所述声噪传感器和真空规的实时测量数值，与设计的内部噪音环境得到误差量，并将误差量经过所述控制装置发送给所述执行装置，所述执行装置控制所述真空腔体的真空度。
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