[发明专利]一种MOSFET并联电路布局有效

专利信息
申请号: 201310326544.2 申请日: 2013-07-31
公开(公告)号: CN103582408A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 刘杰;佟炳然 申请(专利权)人: 刘杰;佟炳然
主分类号: H05K13/04 分类号: H05K13/04
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 成金玉
地址: 102208 北京市昌平区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种MOSFET并联电路布局,具体的说是一种基于单层铝基板的功率MOSFET三相并联电路,主要用于电机驱动系统,这种电路基于单层铝基板的三相MOSFET并联电路,包括:在单层铝基板上,由下至上分成3个区域,分别是U、V、W相区域,每个区域由上管并联MOSFET模组和下管并联MOSFET模组构成,整个三相并联电路共有6排平行的并联MOSFET模组,每一排模组中包括n个MOSFET。本发明这种电路布局是在传统铝基板上,通过专门设计的电路布局,可以以较小的板面积提供较大的功率密度和良好的热均衡性。
搜索关键词: 一种 mosfet 并联 电路 布局
【主权项】:
一种MOSFET并联电路布局,其特征在于包括:在单层铝基板上,由下至上分成3个区域分别是U、V、W相区域,每个区域由上管并联MOSFET模组和下管并联MOSFET模组构成;整个三相并联电路共有6排平行的并联MOSFET模组,每一排模组中包括n个MOSFET,其中n≥1;6排并联MOSFET模组将单层铝基板分成7个电流汇流区,从下至上分别为U相下管源极汇流区、U相上管源极与U相下管漏极汇流区、U相和V相上管漏极汇流区35、V相上管源极与下管漏极汇流区、W相与V相下管源极汇流区、W相上管源极与下管漏极汇流区、W相上管漏极汇流区;在W相上管漏极汇流区、U相和V相上管漏极汇流区分别布置有正极电流输入接口,在U相下管漏极汇流区、V相上管源极与下管漏极汇流区分别布置有负极电流输出接口;在U相上管源极与U相下管漏极汇流区、V相上管源极与下管漏极汇流区、W相上管源极与下管漏极汇流区分别布置有交流输出接口。
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