[发明专利]可用于高速电镀的无氰电镀银镀液及电镀工艺在审
申请号: | 201310303717.9 | 申请日: | 2013-07-19 |
公开(公告)号: | CN103397355A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 安茂忠;刘安敏;任雪峰;张锦秋;杨培霞 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C25D3/46 | 分类号: | C25D3/46;C25D5/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150000 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 可用于高速电镀的无氰电镀银镀液及电镀工艺,属于电镀银技术领域。所述镀液由乙内酰脲衍生物、辅助配位剂、氢氧化钾、碳酸钾、硝酸银和超纯水配制而成。电镀银操作分为两步:预镀中间镀银层和快速镀银,完成电镀后,从电镀液中取出试样,用蒸馏水清洗表面,冷风干燥。本发明所得电镀银体系的电镀液中不含有剧毒物质,且镀液具有极高的稳定性,新配制镀液及经过多次恒电流施镀后的镀液在放置超过2个月后不出现沉淀、变色等现象,且所有久置或长时间工作后的镀液施镀效果与新配制镀液相同,在很宽的温度范围、电流密度范围内均能得到具有良好外观的银镀层。 | ||
搜索关键词: | 用于 高速 电镀 无氰电 镀银 工艺 | ||
【主权项】:
可用于高速电镀的无氰电镀银镀液,其特征在于所述镀液由乙内酰脲衍生物、辅助配位剂、氢氧化钾、碳酸钾、硝酸银和超纯水配制而成,其中含有50~450g/L乙内酰脲衍生物、10~300g/L辅助配位剂、35~325g/L氢氧化钾、35~300g/L碳酸钾和5~105g/L硝酸银。
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