[发明专利]一种研磨抛光方法有效

专利信息
申请号: 201310297150.9 申请日: 2013-07-16
公开(公告)号: CN103419118A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 刘高平 申请(专利权)人: 刘高平
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00;B24B37/34;B24B37/11
代理公司: 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 代理人: 王华
地址: 437300 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种研磨抛光方法,包括粗抛光、半精抛光和精抛光等步骤,并在不同的步骤采用不同的工具和研磨辅料以逐渐降低工件的表面粗糙度,直至达到镜面的效果。
搜索关键词: 一种 研磨 抛光 方法
【主权项】:
一种研磨抛光方法,其特征在于:包括下列步骤:(1)粗抛光A、在工件需要抛光的区域中的平整区域涂第一种钻石膏,然后将电动旋转打磨机的第一研磨头放置在所述第一种钻石膏上,启动所述电动旋转打磨机进行研磨;所述第一种钻石膏中的钻石的粒径为15微米;所述第一研磨头的结构是所述电动旋转打磨机的打磨头上固定羊毛毡,所述羊毛毡前端固定铜磨具;B、在工件需要抛光的区域中的角落区域涂煤油,在所述煤油上放置油石,然后用往复式手持打磨机的打磨杆作用于所述油石,启动所述往复式手持打磨机使所述油石作往复运动以对所述角落区域进行打磨;C、将所述第一种钻石膏和煤油清洗干净,在工件需要抛光的区域放置大于或等于1800目的油石,然后用往复式手持打磨机的打磨杆作用于所述油石,启动所述往复式手持打磨机使所述油石作往复运动以擦除所述A步骤和B步骤打磨时留下的痕迹;(2)半精抛光在工件需要抛光的区域涂第二种钻石膏,在所述第二种钻石膏上放置铜研磨治具,然后用往复式手持打磨机的打磨杆作用于所述铜研磨治具,启动所述往复式手持打磨机使所述铜研磨治具作往复运动进行打磨以去除所述粗抛光时产生的痕迹;所述第二种钻石膏中的钻石的粒径为5微米;(3)精抛光A、在工件需要抛光的区域涂第三种钻石膏,然后将电动旋转打磨机的第二研磨头放置在所述第三种钻石膏上,启动所述电动旋转打磨机进行研磨以去除所述半精抛光时产生的痕迹;所述第二研磨头的结构是所述电动旋转打磨机的打磨头上固定羊毛毡;所述第三种钻石膏中的钻石的粒径为2微米;B、将所述第三种钻石膏清洗干净后,在工件需要抛光的区域涂第四种钻石膏,然后将电动旋转打磨机的第三研磨头放置在所述第三种钻石膏上,启动所述电动旋转打磨机进行研磨;所述第三研磨头的结构是所述电动旋转打磨机的打磨头上固定羊毛毡,该羊毛毡的前端贴有绒布或者包裹有棉花;所述第四种钻石膏中的钻石的粒径为1微米;所述第三研磨头的转动速度小于或等于10000转/分钟。
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