[发明专利]一种单晶硅制备工艺中排放氩气的净化回收方法与装置

摘要

一种单晶硅制备工艺中排放氩气的净化回收方法与装置，所述方法含有以下几个步骤：将单晶硅炉排放的粗氩气汇集后进行压缩除油处理，采用催化氧化法除去一氧化碳与烷烃，采用加氢除氧法除去氧，采用吸附法除去二氧化碳及水分，采用高低压双塔低温精馏法除去氮与氢，最终得到纯净压缩氩气可直接送回单晶硅炉重新利用；所述的装置包括：对单晶硅炉排放的粗氩气进行粗油过滤的粗氩气收集预处理系统，进行精密油过滤的压缩除油系统，除去一氧化碳、烷烃与氧组分的催化反应系统，除去二氧化碳和水分的粗氩气纯化系统，除去氮和氢组分的低温精馏系统，为低温精馏系统制取氮气提供原料空气来源的空气处理系统，以及对整套装置进行控制的自动控制系统。该方法和装置能实现单晶硅产业中大量保护氩气的回收和循环使用。

主权项

一种单晶硅制备工艺中排放氩气的净化回收方法，该方法含有以下几个步骤：a） 将单晶硅炉排放的粗氩气汇集后进行压缩除油处理，b） 采用催化氧化的方法除去粗氩气中的一氧化碳与烷烃，c） 采用加氢除氧的方法除去粗氩气中的氧，d） 采用吸附法分别除去粗氩气和空气中的二氧化碳及水分，e） 采用高、低压双塔低温精馏法分别制取纯氮气与高纯氩气。