[发明专利]一种柔性ZnO基薄膜晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310286047.4 申请日: 2013-07-09
公开(公告)号: CN103413833A 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 繁萌;李辉;瞿敏妮;仇志军;刘冉 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/06;H01L21/34
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于微电子及平板显示技术领域,具体为一种柔性金属氧化物薄膜晶体管及其制备方法。该柔性薄膜晶体管包括柔性基底、平坦层、隔绝缓冲层、栅极、栅极绝缘层、源极、漏极及半导体沟道层。n型和p型氧化锌半导体沟道层采用简单的无机溶液法制备,整个工艺温度控制在200℃以内。制作时在基底双面生长同样厚度的平坦层及隔绝缓冲层,并通过热退火的方式缓解工艺过程中的柔性衬底弯曲,提高后续的光刻对准精度。本发明可提高柔性TFT及后续器件的可操作性及稳定性,且制备工艺简单,生产成本较低。
搜索关键词: 一种 柔性 zno 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
一种柔性氧化锌基薄膜晶体管,其特征在于包括:柔性基底、在柔性基底两侧的平坦层、分别在两侧的平坦层外侧的隔绝缓冲层、在一个隔绝缓冲层外侧的栅极、与所述栅极绝缘隔开的源极和漏极,与栅极绝缘且与源极、漏极连接的氧化物半导体沟道层,及将栅极与源漏电极、半导体层绝缘隔开的栅极绝缘层;所述半导体沟道层为n型和p型ZnO,n型成分为ZnO薄膜,p型成分为CuxZn1‑xO薄膜;采用无机溶液旋涂法生成,然后经退火处理制得,厚度7nm~100nm;其中:所述ZnO薄膜由锌氨络离子溶液旋涂法制备获得;CuxZn1‑xO薄膜由铜氨络离子溶液与锌氨络离子溶液按一定比例混合,再经旋转涂布方法制备获得。
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