[发明专利]一种ZnO纳米阵列紫外探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201310259647.1 申请日: 2013-06-26
公开(公告)号: CN103441154A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 张跃;衣芳;廖庆亮;黄运华;闫小琴 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/18;H01L31/09
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 皋吉甫
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明一种ZnO纳米阵列紫外探测器及其制作方法,该器件结构为金属-半导体-金属接触型,从下到上依次为ITO或FTO导电玻璃的基底,覆盖在基底上的ZnO薄膜,位于ZnO薄膜的中间位置的另一端电极,以及另一端电极四周的ZnO纳米阵列,同时基底为一端电极;另一端电极的面积为基底总面积的10%~12%。制备方法如下:先利用磁控溅射在基底上生长一层ZnO薄膜;然后在ZnO薄膜上电极并引出一端导线;接着在电极上覆盖PDMS保护层;再通过水热法生长ZnO纳米阵列;最后在样品一侧边缘处刮掉部分ZnO使导电玻璃基底裸露并引出另一端导线,即得所述紫外探测器。本发明具有制作工艺简单、易于操作、成本低廉、器件灵敏度高、性能稳定等优点。
搜索关键词: 一种 zno 纳米 阵列 紫外 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
一种ZnO纳米阵列紫外探测器,其特征在于:该器件结构为金属‑半导体‑金属接触型,从下到上依次为ITO或FTO导电玻璃的基底,覆盖在所述基底上的ZnO薄膜,位于所述ZnO薄膜中间位置的一端电极,以及所述一端电极四周的ZnO纳米阵列,同时所述基底为另一端电极;其中,所述一端电极为Ag或Pt;一端电极的面积为基底总面积的10%~12%。
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