[发明专利]浮雕釉的制作方法无效
| 申请号： | 201310252164.9 | 申请日： | 2013-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN104230380A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | 魏红霞 | 申请（专利权）人： | 魏红霞 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 212000 江苏省镇*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种浮雕釉的制作方法，通过下述技术方案来实现：（1）将陶瓷生坯或素烧坯清理干净，适当补水；（2）在不要釉面形成浮雕的部位施以透明釉或色釉；（3）在需要形成的浮雕部位或区域采用喷涂，刷涂或浸泡、蘸取方式施釉，干燥后釉层厚度保证0.6—0.8mm，均匀平滑；（4）施釉完成后，先在850－900°C温度下排膜，再逐步升温至1190－1220°C，保温时间5－10分钟，然后熄火冷却。在陶瓷釉面上形成自然浮雕的方法融传统和现代陶瓷釉面装饰工艺于一体，以物理和化学反应的结果有机、科学地更新了手工雕饰。它不仅大大节约了生产成本，提高生产效率，更主要的是能取得人工所不能及的特殊效果，而且广泛适用于日用陶瓷，工艺陶瓷和建筑卫生陶瓷等生产领域。 | ||
| 搜索关键词： | 浮雕 制作方法 | ||
【主权项】：
一种浮雕釉的制作方法，其特征在于包括以下步骤：（1）将陶瓷生坯或素烧坯清理干净，适当补水；（2）在不要釉面形成浮雕的部位施以透明釉或色釉；（3）在需要形成的浮雕部位或区域采用喷涂，刷涂或浸泡、蘸取方式施釉，干燥后釉层厚度保证0.6—0.8mm，均匀平滑；（4）施釉完成后，先在850－900°C温度下排膜，再逐步升温至1190－1220°C，保温时间5－10分钟，然后熄火冷却。
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