[发明专利]用于记录头的写入磁极有效
| 申请号： | 201310242104.9 | 申请日： | 2013-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN103514892A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 罗勇;沈哲;D·林;H·殷 | 申请（专利权）人： | 希捷科技有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/39 | 分类号： | G11B5/39 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 高见 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明中公开的一种写入磁极结构包括写入磁极层、包含倾斜表面的底层、以及写入磁极层与底层之间的覆盖层，其中该覆盖层由具有比写入磁极层的硬度小的硬度的材料制成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 记录 写入 磁极 | ||
【主权项】：
一种装置，包括：具有倾斜表面的底层；沉积在所述底层的所述倾斜表面上的覆盖层；以及沉积在所述覆盖层上的写入磁极层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于希捷科技有限公司，未经希捷科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310242104.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：双料口双螺杆挤出机
- 下一篇：一种石油管道挤塑机的上料装置
