[发明专利]一种光学元件定量刻蚀及清洗装置有效
| 申请号： | 201310237071.9 | 申请日： | 2013-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN103268853A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 郭隐彪;叶卉;杨炜;胡陈林;吴沿鹏 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;B08B3/12 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人： | 刘勇 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种光学元件定量刻蚀及清洗装置，涉及一种刻蚀及清洗装置。设有第一直线电机、第二直线电机、支架、底座、刻蚀容器、清洗容器、机械手、数据显示器、超声波传感器、微型水泵、过滤器、喷头、微控制器和超声波发射装置；第一直线电机、第二直线电机、机械手和数据显示器均安装在支架上，支架设于底座上，刻蚀容器和清洗容器置于支架正下方且呈左右设置，超声波传感器安装在刻蚀容器的液仓底部，超声波发射装置安装在清洗容器的液仓底部，清洗容器中安置微型水泵、过滤器和喷头，微型水泵、过滤器和喷头串联连通，超声波传感器信号输出端接微控制器信号输入端，微控制器输出端分别接第一直线电机和第二直线电机，数据显示器与微控制器电连接。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 元件 定量 刻蚀 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种光学元件定量刻蚀及清洗装置，其特征在于：设有第一直线电机、第二直线电机、支架、底座、刻蚀容器、清洗容器、机械手、数据显示器、超声波传感器、微型水泵、过滤器、喷头、微控制器和超声波发射装置；第一直线电机、第二直线电机、机械手和数据显示器均安装在支架上，支架设于底座上，刻蚀容器和清洗容器置于支架正下方且呈左右设置，超声波传感器安装在刻蚀容器的液仓底部，超声波发射装置安装在清洗容器的液仓底部，清洗容器中安置微型水泵、过滤器和喷头，微型水泵、过滤器和喷头串联连通，超声波传感器信号输出端接微控制器信号输入端，微控制器输出端分别接第一直线电机和第二直线电机，数据显示器与微控制器电连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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