[发明专利]CMOS图像传感器、其像素单元及像素单元制备方法在审

专利信息
申请号: 201310228850.2 申请日: 2013-06-08
公开(公告)号: CN103311260A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 顾学强;周伟;陈力山 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;林彦之
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种CMOS图像传感器的像素单元,包括:P型半导体衬底;N型掺杂的光电二极管,形成于衬底上,用于将光子转换为电子;N型掺杂的悬浮漏极,形成于衬底上,用于将电子转换为电压信号输出;位于衬底上的传输管,用于自光电二极管向悬浮漏极传输电子;光电二极管至少包括第一区域和第二区域,悬浮漏极、第一区域和第二区域的N型离子掺杂浓度递减,其中,第一区域为临近传输管的光电二极管区域,第二区域为远离传输管的光电二极管区域。其有效避免了CMOS图像传感器输出图像出现残影、并明显降低了随机噪声。
搜索关键词: cmos 图像传感器 像素 单元 制备 方法
【主权项】:
一种CMOS图像传感器的像素单元,包括:P型半导体衬底;N型掺杂的光电二极管,形成于所述衬底上,用于将光子转换为电子;N型掺杂的悬浮漏极,形成于所述衬底上,用于将所述电子转换为电压信号输出;位于所述衬底上的传输管,用于自所述光电二极管向所述悬浮漏极传输所述电子;其特征在于,所述光电二极管至少包括第一区域和第二区域,所述悬浮漏极、所述第一区域和所述第二区域的N型离子掺杂浓度递减,其中,所述第一区域为临近所述传输管的光电二极管区域,所述第二区域为远离所述传输管的光电二极管区域。
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