[发明专利]导模共振滤光片光刻胶层的优化方法有效
| 申请号： | 201310222013.9 | 申请日： | 2013-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN103424995A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 王振云;王琦;唐庆勇;张大伟;黄元申;洪瑞金;倪争技;盛斌;陶春先 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/20 |
| 代理公司： | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人： | 郁旦蓉 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明主要提供了光刻胶厚度对滤光片的影响，并对其进行了优化。其特征在于：在波导层上方进行衍射光栅的制作，光刻胶在曝光显影过程中，由于曝光时间以及显影时间的影响，使得最后全息方法制作的光栅的槽深并不是实际匀胶的厚度，所以在导模层和衍射光栅层还存在一层没有感光的光刻胶层，而这直接影响到实际制作滤光片的带宽以及峰值位置。该方法实现了未成功曝光显影光刻胶对滤光片反射产生的调制作用。不仅对实际制备过程中匀胶厚度极限有指导作用，也能够根据此结果中未显影光刻胶优化厚度来调整其他后期滤光片的工艺参数。本发明实施方便可用于滤光片的制作以及生物传感等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 共振 滤光 光刻 优化 方法 | ||
【主权项】：
一种导模共振滤光片光刻胶层的优化方法，用于在制作导模共振滤光片的过程中调节滤光片反射光的波长和带宽，其特征在于，滤波片包括：基底层、波导层、未感光光刻胶层以及光刻胶光栅层，其中，所述未感光光刻胶层的厚度为200nm‑1000nm，通过调节未感光光刻胶层的厚度，得到所需所述反射光波长的最优波长与带宽。
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