[发明专利]一种膜带连续单面化学镀装置及其方法有效
| 申请号： | 201310217985.9 | 申请日： | 2013-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN103290393A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 刘永进;张伟锋;高津平;曹颖杰;舒福璋 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 主分类号： | C23C18/00 | 分类号： | C23C18/00 |
| 代理公司： | 北京中建联合知识产权代理事务所 11004 | 代理人： | 朱丽岩 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种膜带连续单面化学镀装置及其方法，该装置由阻流搅拌辊（3）、承载平台（4）、导入辊（6）、导出辊（10）和镀液承接盘（7）组成，阻流搅拌辊（3）均匀分布在承载平台（4）上，导入辊（6）位于承载平台（4）前方，导出辊（10）位于承载平台（4）后方，镀液承接盘（7）位于承载平台（4）下方。该化学镀的方法是：膜带由导入辊引到承载平台上，在承载平台上完成镀制，再由导出辊导出，化学镀液由镀液入口流入承载平台处的膜带上表面，形成液膜，最后由镀液出口流出。通过控制液膜在膜带传输方向上流动的稳定性实现镀液沿膜带传输方向浓度梯度的稳定性，从而实现膜带表面各处工艺历程的一致性，最终实现化学镀的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 连续 单面 化学 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种膜带连续单面化学镀装置，其特征在于：该装置由阻流搅拌辊（3）、承载平台（4）、导入辊（6）、导出辊（10）和镀液承接盘（7）组成，阻流搅拌辊（3）均匀分布在承载平台（4）上，导入辊（6）位于承载平台（4）前方，导出辊（10）位于承载平台（4）后方，镀液承接盘（7）位于承载平台（4）下方。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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