[发明专利]光刻胶薄膜的制作方法无效
| 申请号： | 201310203712.9 | 申请日： | 2013-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN103293859A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 赖宝玲 | 申请（专利权）人： | 苏州扬清芯片科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种简便易行的光刻胶薄膜的制作方法，该光刻胶薄膜是通过将光刻胶溶液填充到两个平行的基板中，加热烘干而制得。本发明中提出的这种光刻胶薄膜的制作方法，简便易行，避免使用甩胶工艺，能够满足微加工领域的使用需求，在微电子、化学、生物、医学等应用领域具有广泛的前景。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 薄膜 制作方法 | ||
【主权项】：
光刻胶薄膜的制作方法，其特征在于该薄膜是通过将光刻胶溶液填充到两个平行的基板中，加热烘干制备而成。
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