[发明专利]一种用于双层周期性微结构的层间错位测试方法有效
| 申请号: | 201310201180.5 | 申请日: | 2013-05-27 |
| 公开(公告)号: | CN103398666A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
| 发明(设计)人: | 陈树强;邓浩 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
| 主分类号: | G01B11/14 | 分类号: | G01B11/14 |
| 代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 梁田 |
| 地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | 一种用于双层周期性微结构的层间错位测试方法,用于测试双层光栅结构的层错位间距δ,包括层错位间距-衍射光方程F拟合过程,测量固定层错位间距δ下的光栅的零级衍射光关注参数并取得关注参数的波长曲线;进一步取得一组等差离散序列定义的层错位间距值(δ0,δ1,δ2…)所对应的关注参数的波长曲线组;在曲线组中选择随δ变化,关注参数变化最敏感的波长区间FQ,拟合出特定波长范围内的平均层错位间距-衍射光方程F2;在得到F2后,测量层错位间距时,使用处于FQ区间内的窄谱偏振光源测量零级衍射光的平均关注参数值,即可得出待测双层结构的层错位间距。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 双层 周期性 微结构 错位 测试 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于双层周期性微结构的层间错位测试方法,用于测试双层光栅结构的层错位间距
,包括层错位间距-衍射光方程F拟合过程,所述层错位间距-衍射光方程拟合过程包括如下步骤:步骤101.以单色偏振的平行光沿一定角度入射待测双层结构表面,测量零级衍射光的关注参数F;单色偏振光扫频输出,得到在固定层错位间距
下的关注参数的波长曲线;步骤102.仅等差的改变步骤1中的层错位间距
,多次重复步骤101,取得一组由等差离散序列的层错位间距值
对应的关注参数F的波长曲线组F1(
,
);其中
为波长;步骤103.在曲线组F1(
,
)中选择随
变化,关注参数变化最敏感的波长区间FQ,对处于FQ内的任一固定波长,利用不同层错位间距对应的若干个关注参数F的值,拟合出该波长下的关注参数随层错位间距变化的函数;改变波长重复拟合,得到在FQ区间内的各个波长下的关注参数随层错位间距变化的函数F2(
),作为层错位间距-衍射光方程F;所述用于双层周期性微结构的层间错位测试方法在得到F2(
)后,测量层错位间距时,使用处于FQ区间内的任意单色偏振光沿与步骤101中同样的入射角度入射待测双层结构,测量零级衍射光的关注参数,按照对应的关注参数值和波长值,即可得出待测双层结构的层错位间距。
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