[发明专利]一种以水合高岭石制备甘氨酸-高岭石插层复合物的方法

摘要

本发明公开了一种以水合高岭石制备甘氨酸-高岭石插层复合物的方法，该方法为：每1g水合高岭石与200ml2~3mol/L的甘氨酸溶液混合，调节pH值为6~7，在65~80℃下搅拌48~24h进行反应。再将反应产物经混合液经离心，水洗后，得到甘氨酸-高岭石插层复合物。这种插层复合物的层间距为d001=1.03nm，插层率为74~84%。本发明制备的甘氨酸-高岭石在空气中能够长时间稳定存在，可以作为氨基酸类药物缓释系统研究的基础。本发明制备工艺简单快速，成本低，易于实现。特别地，水合高岭石是一种无毒的材料，作为前驱体应用于制备甘氨酸-高岭石插层复合物，可以扩展其在药物研究领域的应用价值。

主权项

一种以水合高岭石制备甘氨酸‑高岭石插层复合物的方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）将甘氨酸晶体置于水中经搅拌溶解，得到纯清的甘氨酸水溶液，溶液浓度控制在2~3 mol/L之间；（2）在步骤1得到的甘氨酸水溶液中控制滴入醋酸和氨水以调节溶液的pH值至6~7，得到甘氨酸反应溶液；（3）将层间距为d001=0.84nm的水合高岭石与步骤2得到的甘氨酸反应溶液混合，得到水合高岭石/甘氨酸反应体系，水合高岭石与甘氨酸反应溶液的质量体积比为1:200（g/mL）；  （4）将水合高岭石/甘氨酸反应体系在65~80℃下连续搅拌24~48小时后，得到反应生成物混合溶液；（5）将混合物溶液经离心分离，去除液相，获得固相沉淀物后，再经过多次加入清水,离心分离过程,洗去固相沉淀物表面吸附的剩余甘氨酸晶体，最后得到甘氨酸‑高岭石插层复合物粉末。