[发明专利]一种纳米碳化硅的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310154570.1 申请日: 2013-04-28
公开(公告)号: CN103232038A 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 马文会;谢江生;魏奎先;秦博;伍继君;谢克强;周阳;龙萍;杨斌;戴永年 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36;B82Y30/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种纳米碳化硅的制备方法,属于纳米材料技术领域。将纳米二氧化硅和炭质材料混合均匀,然后将混合物压制成片并烧结后作为阴极,以石墨为阳极,将阴极和阳极放入熔融的氯化物熔盐电解质中,在500℃~1000℃温度下,在阴极和阳极之间施加电压进行电解,将阴极制备得到的产物依次经过碱洗、水洗和干燥,最终得到高纯度的纳米SiC。该工艺具有流程短、能耗低,对环境友好等特点。
搜索关键词: 一种 纳米 碳化硅 制备 方法
【主权项】:
一种纳米碳化硅的制备方法,其特征在于具体步骤包括如下:将纳米二氧化硅和炭质材料以摩尔比1∶1~2的比例混合均匀、压制成型并烧结后作为阴极,以石墨为阳极,将阴极和阳极放入温度为500~1000℃熔融的氯化物熔盐电解质中,在阴极和阳极之间施加电压进行电解,然后将阴极制备得到的产物依次经过碱洗、水洗和干燥,最终得到高纯度的纳米碳化硅。
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