[发明专利]消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变的方法

摘要

本发明提供消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变的方法，从扩展光源发出的光经泰曼-格林干涉仪两臂后发生等倾干涉，产生中心稀疏边缘密集的等倾干涉圆条纹并用电耦合器件记录，利用等倾干涉产生的同心圆条纹形成圆光栅，将计算全息基片用不透明液体处理形成圆对称的二值振幅型光栅；设定圆对称的二值振幅型光栅上刻蚀的同心圆条纹与圆光栅上的等倾干涉圆条纹形成莫尔条纹条件；利用计算机记录带有条纹图形畸变信息的莫尔条纹图和不带有条纹图形畸变的莫尔条纹图，将两幅莫尔条纹图进行比较和数据处理，得到计算全息基片条纹图形畸变值，使用人工合成畸变图剔除掉计算全息基片条纹图形畸变对非球面检测结果的影响，实现非球面高精度检测。

主权项

一种消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变的方法，其特征在于，利用由放置在实验平台上的扩展光源、准直透镜、泰曼‑格林干涉仪、计算全息基片、电耦合器件、计算机组成的消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变系统，所述泰曼‑格林干涉仪含有分光板、两个反射镜、会聚透镜，该方法包含以下步骤：步骤S1：从扩展光源发出的光经泰曼‑格林干涉仪的参考臂和测试臂后发生等倾干涉，产生中心稀疏边缘密集的等倾干涉圆条纹，用电耦合器件记录会聚透镜焦平面上产生的等倾干涉圆条纹；步骤S2：利用等倾干涉圆条纹形成圆光栅，将计算全息基片用不透明液体处理形成一个圆对称的二值振幅型光栅；步骤S3：设定圆对称的二值振幅型光栅上刻蚀的同心圆条纹与圆光栅上的等倾干涉圆条纹形成莫尔条纹需满足两个条件：(1)重叠的圆光栅和圆对称的二值振幅型光栅都为等间距的光栅；(2)圆光栅和圆对称的二值振幅型光栅重叠域处间距相等；步骤S4：将不透明液体处理过的计算全息基片放置在产生等倾干涉圆条纹的会聚透镜的焦平面上，使等倾干涉圆条纹与计算全息基片上的同心圆条纹发生干涉，形成一幅带有条纹图形畸变信息的莫尔条纹图，计算机记录带有条纹图形畸变信息的第一莫尔条纹图；步骤S5：将根据待测非球面的参数设计出不含条纹图形畸变的理想计算全息基片上的同心圆条纹和电耦合器件记录的等倾干涉圆条纹相互干涉，生成不含条纹图形畸变信息的莫尔条纹图，用计算机记录不含条纹图形畸变信息的第二莫尔条纹图；步骤S6：对第一莫尔条纹图和第二莫尔条纹图作差数据处理，得到条纹图形畸变值；步骤S7：根据得到的条纹图形畸变值人工合成畸变图，将非球面面形测量得到的干涉图和人工合成畸变图作差数据处理后，就能准确地剔除掉计算全息基片上的条纹图形畸变对非球面检测结果的影响，实现非球面的高精度检测。