[发明专利]半导体制造设备的工艺任务配置处理系统及方法有效
| 申请号: | 201310126410.6 | 申请日: | 2013-04-12 |
| 公开(公告)号: | CN104103552A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
| 发明(设计)人: | 张继宏 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 陈振 |
| 地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种半导体制造设备的工艺任务配置处理系统和方法,其中方法包括如下步骤:配置硅片装载端口的位置、片盒中硅片的数目和位置,以及每个硅片使用的工艺进程;配置使用同一个工艺进程的每个硅片运行的工艺路径和工艺腔室;配置不同的工艺腔室所运行的工艺。本发明提供的半导体制造设备的工艺任务配置处理系统和方法,实现了指定片盒中的每个硅片可以拥有不同的路径,分别进入不同的腔室,然后按照该腔室的工艺模块设置进行不同的工艺任务,解决了在同一个工艺任务中,不同硅片沿不同路径进行不同工艺的需求;系统结构简单,便于调试和管理。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 制造 设备 工艺 任务 配置 处理 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体制造设备的工艺任务配置处理系统,其特征在于,包括任务模块、进程模块及工艺模块;所述任务模块包括第一配置模块,所述第一配置模块用于配置硅片装载端口的位置、片盒中硅片的数目和位置,以及每个硅片使用的工艺进程;所述进程模块包括第二配置模块,所述第二配置模块用于配置使用同一个所述工艺进程的每个硅片运行的工艺路径和工艺腔室;所述工艺模块包括第三配置模块,所述第三配置模块用于配置不同的工艺腔室运行的工艺。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





