[发明专利]用于淀积反应器的设备和方法

摘要

一种诸如ALD(原子层淀积)设备的设备，其包括：前体源，所述前体源被配置成用于通过顺序的自饱和表面反应将材料淀积在淀积反应器中的被加热的基底上。所述设备包括：供入管线，所述供入管线用于将前体蒸汽从所述前体源供应到反应室中；以及结构件，所述结构件被配置成利用来自反应室加热器的热量阻止前体蒸汽在所述前体源和所述反应室之间凝结成液相或固相。本发明还提供了脉冲阀、前体源、前体盒以及方法。

主权项

一种设备，包括：前体源，所述前体源被配置成用于通过顺序的自饱和表面反应将材料淀积在淀积反应器中的被加热的基底上；第一脉冲阀，所述第一脉冲阀嵌在所述前体源中并被配置成控制前体蒸汽从所述前体源到反应室的供应，所述反应室包含于所述反应器中并且容纳着所述基底，所述设备被配置成：将惰性气体传送到前体盒以增大压强并使前体蒸汽和惰性气体的混合物随后朝着所述反应室的流动容易。