[发明专利]一种过渡金属掺杂ZnO基铁磁多晶薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201310113963.8 | 申请日: | 2013-04-02 |
公开(公告)号: | CN103194798A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 朱丽萍;胡亮;陈文丰;何海平;叶志镇 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C30B29/16 | 分类号: | C30B29/16;C30B28/04;C30B33/04 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开一种过渡金属掺杂ZnO基铁磁多晶薄膜,构成该铁磁多晶薄膜的材料为Zn1-x(TM)xO;其中,TM为过渡金属元素Cu、Co或Mn,且对于Cu,0<x<0.03;对于Co和Mn,0<x<0.08。本发明还公开了上述过渡金属掺杂ZnO基铁磁多晶薄膜的制备方法,由过渡金属及锌的醋酸盐前驱体溶液制备TM掺杂ZnO纳米晶沉淀,然后经分散、旋涂得到过渡金属掺杂ZnO基铁磁多晶薄膜,为增强多晶薄膜的铁磁稳定性,改进输运特性,还进行了氢等离子优化处理。该方法工艺简单、成本低廉,可在较大范围内调节掺杂浓度,得到的多晶薄膜致密平整、附着性良好,室温下均表现明显的磁滞回线,可应用于量子自旋器件中。 | ||
搜索关键词: | 一种 过渡 金属 掺杂 zno 基铁磁 多晶 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种过渡金属掺杂ZnO基铁磁多晶薄膜,其特征在于,构成所述铁磁多晶薄膜的材料为Zn1‑x(TM)xO;其中,TM为过渡金属元素Cu、Co或Mn,且对于Cu,0<x<0.03;对于Co或Mn,0<x<0.08。
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