[发明专利]一种三明治结构硅基薄膜材料及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201310113508.8 | 申请日： | 2013-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN103144393A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 陶占良;郭爽;李海霞;陈军;程方益;梁静 | 申请（专利权）人： | 南开大学 |
| 主分类号： | B32B33/00 | 分类号： | B32B33/00;H01M4/13;C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人： | 侯力 |
| 地址： | 300071*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种三明治结构硅基薄膜材料，由金属层、硅层和金属层构成叠层三明治结构，金属层薄膜的厚度为20-100nm、Si层薄膜的厚度为60nm-9.8μm；其制备方法是：采用金属层的金属靶、Si层的硅靶、金属层的金属靶交替溅射工艺，在基底上先制备金属导电附着层薄膜，然后制备硅薄膜，最后在硅薄膜表面覆盖金属薄层，形成三明治结构。本发明的优点是：三明治结构硅基薄膜用作锂电池负极材料，有效抑制了硅基材料在锂离子脱/嵌过程中较大的体积变化，具有较高的能量密度、循环稳定性和倍率性能；该方法工艺简单，成本较低，有望应用于高能、高功率的薄膜电池中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 三明治 结构 薄膜 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种三明治结构硅基薄膜材料，其特征在于：由金属层（M层）、硅层（Si层）和金属层（M层）构成叠层三明治结构，金属层薄膜的厚度为20‑100nm、Si层薄膜的厚度为60nm‑9.8μm，三层薄膜（M‑Si‑M）的总厚度为0.1‑10.0μm。
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