[发明专利]处理基板的设备和方法有效
申请号: | 201310105527.6 | 申请日: | 2013-03-28 |
公开(公告)号: | CN103357607A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 卢焕益 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 韩国忠淸南道天*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供一种基板处理设备,包括:壳体,提供执行工艺的空间;旋转头,支撑和旋转基板;以及喷射单元,将流体喷射在所述基板上。所述喷射单元包括:第一喷嘴,雾化地喷射第一流体;以及第二喷嘴,喷射第二流体。 | ||
搜索关键词: | 处理 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种基板处理设备,包括:壳体,提供执行工艺的空间;旋转头,支撑和旋转基板;以及喷射单元,将流体喷射在所述基板上,其中所述喷射单元包括:第一喷嘴,雾化地喷射第一流体;以及第二喷嘴,喷射第二流体。
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