[发明专利]基于圆形掩模的步进扫描光刻机及其曝光方法有效
| 申请号： | 201310103916.5 | 申请日： | 2013-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN104076613A | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 霍志军;周金明 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于圆形掩模的步进扫描光刻机及其曝光方法，其结构包括照明系统、用于承载硅片的工件台、用于承载圆形掩模的掩模台以及同步控制系统，所述照明系统提供光源，所述同步控制系统控制所述工件台做直线运动，控制所述掩模台做圆周运动，所述掩模台圆周运动的圆心为所述圆形掩模的圆心。本发明中，基于圆形掩模而设计的同步控制系统控制工件台、掩模台以及照明系统的运动，按照特定的路径完成扫描，完成一个曝光场的扫描后，圆形掩模继续做匀速圆周运动，工件台继续做匀速直线运动，进行下一个曝光场的扫描，大大减少发生路径折返的次数，降低了系统资源的开销，同时减少了掩模台、工件台的变速运动过程，提高了成像质量及精度。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 圆形 步进 扫描 光刻 及其 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种基于圆形掩模的步进扫描光刻机，其特征在于，包括照明系统、用于承载硅片的工件台、用于承载圆形掩模的掩模台以及同步控制系统，所述照明系统提供光源，所述同步控制系统控制所述工件台做直线运动，控制所述掩模台做圆周运动，所述掩模台圆周运动的圆心为所述圆形掩模的圆心。
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