[发明专利]一种分离CH4/CO2的改性二氧化硅膜无效

专利信息
申请号: 201310098049.0 申请日: 2013-03-26
公开(公告)号: CN103170253A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 张志刚;李文秀;郑立娇;陈立峰 申请(专利权)人: 沈阳化工大学
主分类号: B01D71/02 分类号: B01D71/02;B01D53/22;C10L3/10
代理公司: 沈阳技联专利代理有限公司 21205 代理人: 张志刚
地址: 110142 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种分离CH4/CO2的改性二氧化硅膜,涉及一种气体分离膜,为用于脱去天然气中的酸性气体二氧化碳的无机二氧化硅膜,其特征在于,掺杂硅烷偶联剂,通过溶胶-凝胶法制备改性的疏水性SiO2膜;在30KPa下,涂膜5次CH4相对于CO2气体渗透、分离。经修饰的SiO2膜疏水性均增强,溶胶粒径大小有增大趋势,但仍然具有较小的粒径分布;修饰后的α-Al2O3支撑体SiO2膜基本上无开裂,膜层完整。在30KPa下,涂膜5次时CH4相对于CO2气体的渗透通量最大,分离因子也达到最大值气体渗透已经有了超越努森扩散机理的趋势,CH4/CO2在修饰后的SiO2膜中的输运遵循微孔扩散机理。
搜索关键词: 一种 分离 ch sub co 改性 二氧化硅
【主权项】:
一种分离CH4/CO2的改性二氧化硅膜,为用于脱去天然气中的酸性气体二氧化碳的无机二氧化硅膜,其特征在于,掺杂硅烷偶联剂,通过溶胶‑凝胶法制备改性的疏水性SiO2膜;在30KPa下,涂膜5次CH4相对于CO2气体渗透、分离。
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