[发明专利]热敏共聚物、其制法、驱动液、水处理设备和正渗透方法有效

专利信息
申请号: 201310086994.9 申请日: 2013-03-19
公开(公告)号: CN103319723B 公开(公告)日: 2016-12-28
发明(设计)人: 郑普卿;韩圣洙;金载恩;姜孝郎;姜孝;韩珵任 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: C08G81/02 分类号: C08G81/02;C08L87/00;C02F1/44
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 金拟粲
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及热敏共聚物、其制法、驱动液、水处理设备和正渗透方法。公开了热敏共聚物,其包括具有接枝到其上的温度敏感低聚物的第一重复单元以及具有离子部分和所述离子部分的反离子的第二重复单元,其中所述温度敏感低聚物为包括得自具有由化学式1或化学式2表示的部分的不饱和单体的重复单元的低聚物、或为包括得自具有C、N和O且在其环中具有C=N键的杂环化合物的重复单元的低聚物。在化学式1中,R2和R3各自独立地为氢或者直链或支链C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、或C6‑C10芳基,R2和R3不能都为氢,且R2和R3可结合以形成含氮杂环。在化学式2中,R4为C2‑C5亚烷基。[化学式1]*–C(=O)N(R2)(R3)[化学式2]。
搜索关键词: 热敏 共聚物 制法 驱动 水处理设备 渗透 方法
【主权项】:
热敏共聚物,包括:具有接枝到其上的温度敏感低聚物的第一重复单元以及具有离子部分和所述离子部分的反离子的第二重复单元,其中所述温度敏感低聚物为包括得自具有由化学式1或化学式2表示的部分的不饱和单体的重复单元的低聚物、或为包括得自具有C、N和O且在其环中具有C=N键的杂环化合物的重复单元的低聚物:[化学式1]*–C(=O)N(R2)(R3)其中,在化学式1中,R2和R3各自独立地为氢或者直链或支链C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、或C6‑C10芳基,R2和R3不能都为氢,且R2和R3任选地结合以形成含氮杂环,[化学式2]其中,在化学式2中,R4为C2‑C5亚烷基,其中所述热敏共聚物为聚氨基酸衍生物。
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