[发明专利]同心圆掩膜版、图形化衬底及制造方法有效
| 申请号： | 201310068615.3 | 申请日： | 2013-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN103197502A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 缪炳有;黄宏嘉;张汝京 | 申请（专利权）人： | 西安神光安瑞光电科技有限公司;西安神光皓瑞光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/54 | 分类号： | G03F1/54;G03F7/20;G03F1/80;H01L33/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 周耀君 |
| 地址： | 710100 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种同心圆掩膜版，包括：一光刻板，所述光刻板上具有同心圆阵列，每个所述同心圆由内向外依次具有内圆、中间环和外圆环，每个所述同心圆的内圆和外圆环对应的部分不透光。本发明还提供一种利用所述的同心圆掩膜版制造的图形化衬底，所述图形化衬底具有阵列分布的皇冠型结构，所述皇冠型结构的中心顶部为三角圆锥形。以及本发明还提供一种图形化衬底的制造方法。本发明利用同心圆掩膜版可以简化皇冠型结构的图形化衬底的制造流程，降低成本的同时，避免量产时由于光刻图形套刻无法准确控制所造成的刻蚀后皇冠形貌差异、甚至变形所带来的片间重复性问题。 | ||
| 搜索关键词： | 同心圆 掩膜版 图形 衬底 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种同心圆掩膜版，包括：一光刻板，所述光刻板上具有同心圆阵列，每个所述同心圆由内向外依次具有内圆、中间环和外圆环，每个所述同心圆的内圆和外圆环对应的部分不透光。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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