[发明专利]平面磁控ECR-PECVD等离子源装置

摘要

本发明公开了一种平面磁控ECR-PECVD等离子源装置，包括真空腔室、微波谐振腔、微波天线、微波波导以及微波发生器，其中，所述微波谐振腔设置在真空腔室的内部，所述微波天线装配在微波谐振腔内，并轴向贯穿微波谐振腔内，所述真空腔室外侧的两端分别设有微波发生器，所述两个微波发生器分别通过微波波导与微波天线的两端相连接，所述真空腔室与微波谐振腔之间设有平面磁控板，待镀膜样品设置在微波谐振腔和平面磁控板之间;所述微波谐振腔内设有若干气体喷射管。本发明的平面磁控板使用硬磁材料产生平面磁场，起到增强反应气体的电离效率，提高镀膜均匀性的作用，兼具高镀膜速率、高膜层均匀性的优点，适用于各种薄膜的镀制。

主权项

一种平面磁控ECR‑PECVD等离子源装置，其特征在于，包括真空腔室、微波谐振腔、微波天线、微波波导以及微波发生器，其中，所述微波谐振腔设置在真空腔室的内部;所述微波天线装配在微波谐振腔内，并轴向贯穿整个微波谐振腔;所述真空腔室外侧的靠近两端部处分别设有微波发生器，所述两个微波发生器分别通过微波波导与微波天线的两端相连接;所述真空腔室与微波谐振腔之间设有平面磁控板，待镀膜样品设置在微波谐振腔和平面磁控板之间;所述微波谐振腔内还设有若干气体喷射管。