[发明专利]一种均相阴离子交换膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310044781.X 申请日: 2013-01-31
公开(公告)号: CN103965497A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 李进;刘中清;刘颐静;史振宇;张旭旺;王志刚 申请(专利权)人: 大连多相触媒有限公司
主分类号: C08J7/12 分类号: C08J7/12;C08J5/22;C08L23/06;C08L53/02;B01D67/00;B01D69/10;B01D71/80
代理公司: 北京万科园知识产权代理有限责任公司 11230 代理人: 刘俊玲;张亚军
地址: 116023 辽宁省大连市沙*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供一种均相阴离子交换膜的制造方法,它包括以下步骤:(1)、以低密度聚乙烯和SBS弹性体二元共混合金为淋膜材料在支撑材料表面淋膜,得到基膜;(2)、将步骤(1)制得的基膜先进行氯甲基化,得到氯甲基膜,接着将氯甲基膜进行季铵化,得阴离子交换膜。本发明的方法工艺简单,流程短,三废少,制备的阴离子交换膜具有离子交换容量高、面电阻低、膜的厚度薄、强度高、尺寸稳定性好、变形率小等优点。
搜索关键词: 一种 均相 阴离子 交换 制造 方法
【主权项】:
一种均相阴离子交换膜的制造方法,它包括以下步骤:(1)、以低密度聚乙烯和SBS弹性体二元共混合金为淋膜材料在支撑材料表面淋膜,得到基膜;(2)、将步骤(1)制得的基膜先进行氯甲基化,得到氯甲基膜,接着将氯甲基膜进行季铵化,得阴离子交换膜。
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