[发明专利]半导体存储器器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201310043672.6 申请日: 2013-02-04
公开(公告)号: CN103594474A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 李闰敬;安正烈 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 俞波;许伟群
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种半导体存储器器件及其制造方法。所述器件包括:半导体衬底,其中交替限定了有源区和隔离区,且在与所述有源区和所述隔离区相交的方向上限定了支持区;第一沟槽,形成在所述隔离区中;第二沟槽,形成在所述有源区和所述隔离区中的第一沟槽之下;以及支持层,形成在所述支持区中的第一沟槽之下。
搜索关键词: 半导体 存储器 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体存储器器件,包括:半导体衬底,其中交替限定了有源区和隔离区,且在与所述有源区和所述隔离区相交的方向上限定了支持区;第一沟槽,形成在所述隔离区中;第二沟槽,形成在所述有源区和所述隔离区中的第一沟槽之下;以及支持层,形成在所述支持区中的第一沟槽之下。
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