[发明专利]一种具有反射镜结构的发光二极管无效
申请号: | 201310037425.5 | 申请日: | 2013-01-31 |
公开(公告)号: | CN103078024A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 项艺;王汉华;杨新民;靳彩霞;董志江 | 申请(专利权)人: | 武汉迪源光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/10 | 分类号: | H01L33/10 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
地址: | 430205 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有反射镜结构的发光二极管,一种具有反射镜结构的发光二极管,从下至上依次包括金属层、DBR层分布式布拉格反射镜、衬底、缓冲层、非掺杂GaN层、n型GaN层、n型GaN层上形成的n电极、有源层、p型GaN层、透明导电层和透明导电层上形成的p电极,其特征在于:所述金属层和所述DBR层分布式布拉格反射镜之间插入有一层用于增加DBR层和金属层的粘附性的过渡层,且所述金属层、所述过渡层和所述DBR层构成所述发光二极管的反射镜结构。本发明的发光二极管,其采用Ag金属层反射层,不需要Au阻挡,节省Au的用量;同时Ag的反射率比Al高,因此有利于提高反射率;同时,由于插入了过渡层,解决了Ag和DBR层粘附性不好、易脱落的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 反射 结构 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种具有反射镜结构的发光二极管,从下至上依次包括金属层、DBR层、衬底、缓冲层、非掺杂GaN层、n型GaN层、n型GaN层上形成的n电极、有源层、p型GaN层、透明导电层和透明导电层上形成的p电极,其特征在于:所述金属层和所述DBR层之间插入有一层用于增加DBR层和金属层的粘附性的过渡层,且所述金属层、所述过渡层和所述DBR层构成所述发光二极管的反射镜结构。
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