[发明专利]用于高流速真空起泡器容器的防溅器无效
申请号: | 201310025264.8 | 申请日: | 2013-01-16 |
公开(公告)号: | CN103205732A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | C·M·伯特彻;T·A·斯特德尔 | 申请(专利权)人: | 气体产品与化学公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 吴亦华 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及一种贮存器,其具有:浸管入口;至少一个挡盘,其定位在该浸管的出口和该贮存器的出口之间以便在该挡盘和该贮存器侧壁之间提供狭窄的环状空间,以防止液滴进入该贮存器的出口和其侧壁的内表面;以及在该侧壁上的径向向内伸出的环状的偏转突出部,其邻近所述挡盘。本发明还涉及一种从具有上述结构的贮存器输送化学前体的方法。本发明设想液体输送和蒸汽输送。 | ||
搜索关键词: | 用于 流速 真空 起泡 容器 防溅器 | ||
【主权项】:
一种贮存器,具有:终止在所述贮存器底部邻近处的浸管入口;配置为浅的向下开口的圆锥体的至少一个挡盘,其定位在所述浸管的出口和所述贮存器的出口之间,被配置成在所述挡盘和所述贮存器侧壁的内表面之间提供狭窄的环状空间;在所述侧壁上的径向向内伸出的环状的偏转突出部,其邻近所述挡盘;所述挡盘和所述偏转突出部能够使液滴进入贮存器出口减至最少;具有轴向间隔地设置在所述偏转突出部的最内边缘下方的径向向内伸出的环状边缘的肩部;以及终止在所述贮存器底部附近的液面传感器,所述贮存器能够具有高于液面探测末端的液面水平。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的