[发明专利]一种多层膜结构的声表面波器件及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310025135.9 申请日: 2013-01-23
公开(公告)号: CN103138702A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 陈希明;李福龙;薛玉明;朱宇清;张倩;阴聚乾;郭燕;孙连婕 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: H03H3/08 分类号: H03H3/08;H03H9/25;H03H9/02
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 侯力
地址: 300384 天津市西青*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种多层膜结构的声表面波器件,由CVD金刚石薄膜、a轴择优取向的氮化铝(a-AlN)薄膜、c轴择优取向的氮化硼(c-BN)薄膜和叉指换能器(IDT)依次叠加组成金刚石-复合膜结构,所述CVD金刚石薄膜的厚度为20-25um,a-AlN薄膜厚度为300-500nm,c-BN薄膜的厚度为300-500nm,IDT为厚度100nm的Al膜。本发明的优点是:该多层膜结构的声表面波器件同时具备以下优点,即金刚石的高硬度、高声速,a-AlN的高声速能有效缓解金刚石与c-BN因声速差距大带来的声速频散效应以及c-BN的高机电耦合系数,可用于制备高频、高声速、大功率、高机电耦合系数的SAW器件。
搜索关键词: 一种 多层 膜结构 表面波 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种多层膜结构的声表面波器件,其特征在于:由CVD金刚石薄膜、a轴择优取向的氮化铝(a‑AlN)薄膜、c轴择优取向的氮化硼(c‑BN)薄膜和叉指换能器(IDT)依次叠加组成金刚石‑复合膜结构,所述CVD金刚石薄膜的厚度为20‑25um,a‑AlN薄膜厚度为300‑500nm,c‑BN薄膜的厚度为300‑500nm,IDT为厚度100nm的Al膜且粗糙度小于5nm。
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