[发明专利]一种管状零件内孔涂层的制备方法有效
| 申请号: | 201310020151.9 | 申请日: | 2013-01-21 |
| 公开(公告)号: | CN103938185A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
| 发明(设计)人: | 吴护林;张隆平;孙彩云;何庆兵;陈海涛;罗明波 | 申请(专利权)人: | 中国兵器工业第五九研究所 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/38;C23C16/34 |
| 代理公司: | 重庆弘旭专利代理有限责任公司 50209 | 代理人: | 周韶红 |
| 地址: | 400039 重*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种管状零件内孔涂层的制备方法,安装管状零件于包括有导气作用的辅助电极、TiCl4储液罐及管状零件夹持夹具的沉积涂层装置中,然后装入真空室内抽真空,通入氩气Ar,开启偏压电源辉光清洗管状零件,通入氢气H2、四氯化钛TiCl4、氮气N2、三氯化硼BCl3反应气体,交替切换N2和BCl3的通入实现TiN和TiB2的沉积;本发明通过管状零件沉积涂层装置解决空间有限导致鞘层重叠、离子能量低、涂层结合力不好的问题,解决外部扩散进入的等离子体快速耗尽,密度低,轴向不均匀的问题,提高管内等离子体的密度和均匀性,实现高效和轴向均匀沉积。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 管状 零件 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种管状零件内孔涂层的制备方法,其特征在于:抽真空保持真空度1.0×10‑2Pa~2.0×10‑2Pa,通入氩气Ar,调整真空度维持在6×10‑2Pa ~ 8×10‑2Pa,开启偏压电源辉光清洗工件5 min ~10min,同时加热真空室温度至300~450℃,关闭氩气和偏压电源;通入一组反应气体,调整真空度维持在1000~1600Pa,开启偏压电源,沉积涂层TiN 30min~120min,关闭偏压电源,停止通入所述一组反应气体,通入氩气Ar 清洗管路5min~10min;再通入另一组反应气体,开启偏压电源,沉积涂层TiB2 150 min~300 min;其中所述一组反应气体为氮气N2、氢气H2、四氯化钛TiCl4,另一组反应气体为三氯化硼BCl3、氢气H2、四氯化钛TiCl4;所述氩气Ar、氢气H2、三氯化硼BCl3、氮气N2的气体流量分别是Ar:80~100 sccm,H2:1400~1600 sccm,BCl3:450~520 sccm,N2:200~300 sccm;所述直流脉冲电源偏压:700~1000V,电流:1~1.2A,占空比:40%~60%,频率:40KHz。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





