[发明专利]装饰薄膜、装饰成形元件与装饰成形制程无效
| 申请号： | 201310004837.9 | 申请日： | 2013-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN103786517A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 胡士强;黄世敏;苏芳玉 | 申请（专利权）人： | 锣洋科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B44C5/04 | 分类号： | B44C5/04;B29C45/14;B32B5/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 中国台湾桃*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种装饰薄膜、装饰成形元件与装饰成形制程。装饰薄膜包括：一承载层；一离型层，配置于承载层上；一保护层，配置于承载层上，其中离型层配置于保护层与承载层之间；一装饰图案层，配置于承载层上；一耐冲击层，配置于承载层上；以及一粘着层，配置于承载层上，其中耐冲击层与粘着层的整体膜厚由2微米至20微米，且耐冲击层与装饰图案层位于保护层与粘着层之间。 | ||
| 搜索关键词： | 装饰 薄膜 成形 元件 | ||
【主权项】：
一种装饰薄膜，其特征在于，包括：一承载层；一离型层，配置于该承载层上；一保护层，配置于该承载层上，其中该离型层配置于该保护层与该承载层之间；一装饰图案层，配置于该承载层上；一耐冲击层，配置于该承载层上；以及一粘着层，配置于该承载层上，其中该耐冲击层与该粘着层的整体膜厚由2微米至20微米，且该耐冲击层与该装饰图案层位于该保护层与该粘着层之间。
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