[发明专利]显影构件、处理盒和电子照相设备有效
| 申请号： | 201280075668.1 | 申请日： | 2012-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN104603696B | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 漆原圣平;中村实;河村邦正;山田真树;草场隆 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/08 | 分类号： | G03G15/08 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
提供能够降低弹性层的热膨胀并且抑制由于与抵接构件长期接触所导致的塑性变形的显影辊。显影辊包括芯轴、设置在芯轴的外周上的含有加成固化型硅橡胶的弹性层和设置在弹性层的外周上的表面层。弹性层包括由下式(1)表示的化合物。当弹性层中由其中n为3‑12的整数的下式(1)表示的化合物的含有率为P1，以及弹性层中由其中n为13‑20的整数的下式(1)表示的化合物的含有率为P2时，P1+P2为5000质量ppm‑12000质量ppm，以及P1为1500质量ppm‑6000质量ppm。(式(1)中，n为3‑20的整数)。[化学式(1)] |
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| 搜索关键词： | 显影 构件 处理 电子 照相 设备 | ||
【主权项】：
1.一种显影构件，其包括：基体；设置在所述基体上的弹性层，所述弹性层包括加成固化型硅橡胶混合物的固化物；和设置在所述弹性层上的表面层，其特征在于：所述弹性层包括由下式(1)表示的化合物；当所述弹性层中的下式(1)中的n表示3以上且12以下的整数的化合物的含量由P1质量ppm表示，以及所述弹性层中的下式(1)中的n表示13以上且20以下的整数的化合物的含量由P2质量ppm表示时，P1+P2为5000质量ppm以上且12000质量ppm以下；以及P1为1500质量ppm以上且6000质量ppm以下：![]()
式(1)中，n表示3以上且20以下的整数。
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