[发明专利]超导线材的制造方法和超导线材有效
申请号: | 201280068316.3 | 申请日: | 2012-02-01 |
公开(公告)号: | CN104081472B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 中崎龙介;中井昭畅;渡部智则;鹿岛直二;长屋重夫 | 申请(专利权)人: | 古河电气工业株式会社;中部电力株式会社 |
主分类号: | H01B12/06 | 分类号: | H01B12/06 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 丁香兰,庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种超导线材的制造方法和超导线材,即使在对超导层进行了厚膜化的情况下超导电流也不会饱和。本发明涉及一种超导线材的制造方法,其是在金属基板11上隔着中间层12形成超导层13而成的超导线材1的制造方法,其特征在于,该制造方法包括加热工序,将金属基板11加热至形成超导层13的超导薄膜的成膜温度;成膜工序,在中间层12上成膜出具有10nm以上且200nm以下的膜厚的超导薄膜;和冷却工序,将金属基板11的温度冷却至低于超导薄膜的成膜温度,该制造方法进行两次以上的由加热工序、成膜工序和冷却工序构成的超导薄膜形成工序。 | ||
搜索关键词: | 超导 线材 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种超导线材的制造方法,其是在金属基板上隔着中间层形成超导层而成的超导线材的制造方法,其特征在于,该制造方法包括:加热工序,将所述金属基板加热至形成所述超导层的超导薄膜的成膜温度;成膜工序,在所述中间层上成膜出具有10nm以上且50nm以下的膜厚的所述超导薄膜;和冷却工序,将所述金属基板温度冷却至低于所述超导薄膜的成膜温度,该制造方法进行两次以上的由所述加热工序、所述成膜工序和所述冷却工序构成的超导薄膜形成工序;其中,通过两次以上的所述超导薄膜形成工序,使所述超导层为0.5μm~5.0μm。
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