[发明专利]取代的1,2,5-噁二唑化合物及其作为除草剂的用途III

摘要

本发明涉及式I的取代的1,2,5-二唑化合物及其N-氧化物和盐，以及包含它们的组合物。本发明还涉及1,2,5-二唑化合物或包含该类化合物的组合物在防治不希望的植物生长中的用途。在式I中，X¹为N或CR¹；X²为N或CR²；X⁴为N或CR⁴；条件是X¹、X²和X⁴中至少一个为N；R例如选自氢、氰基、硝基、卤素、C₁-C₆烷基、C₃-C₇环烷基、C₃-C₇环烷基-C₁-C₄烷基、C₁-C₆卤代烷基、C₂-C₆链烯基、C₂-C₆卤代链烯基、C₂-C₆炔基、C₂-C₆卤代炔基、C₁-C₄烷氧基-C₁-C₄烷基、C₁-C₄卤代烷氧基-C₁-C₄烷基、O-R^a、Z-S(O)_n-R^b、Z-C(＝O)-R^c、Z-C(＝O)-OR^d、Z-C(＝O)-NR^eR^f、Z-NR^gR^h、Z-苯基和Z-杂环基；R¹例如选自Z¹-氰基、卤素、硝基、C₁-C₈烷基、C₂-C₈链烯基、C₂-C₈炔基、C₁-C₈卤代烷基、C₁-C₈烷氧基、C₁-C₄烷氧基-C₁-C₄烷基、Z¹-C₁-C₄烷氧基-C₁-C₄烷氧基、C₁-C₄烷硫基-C₁-C₄烷基、Z¹-C₁-C₄烷硫基-C₁-C₄烷硫基、C₂-C₆链烯氧基、C₂-C₆炔氧基、C₁-C₆卤代烷氧基、C₁-C₄卤代烷氧基-C₁-C₄烷基、Z¹-C₁-C₄卤代烷氧基-C₁-C₄烷氧基、Z¹-S(O)_k-R^1b、Z¹-苯氧基和Z¹-杂环氧基；R²、R³相同或不同且例如选自氢、卤素、Z²-OH、Z²-NO₂、Z²-氰基、C₁-C₆烷基、C₂-C₈链烯基、C₂-C₈炔基、Z²-C₃-C₁₀环烷基、Z²-C₃

主权项

一种式I的1,2,5‑二唑化合物、其N‑氧化物或可农用盐：其中X¹为N或CR¹；X²为N或CR²；X⁴为N或CR⁴；条件是X¹、X²和X⁴中至少一个为N；R选自氢、氰基、硝基、卤素、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中上述两个基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或者部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷基、O‑R^a、Z‑S(O)_n‑R^b、Z‑C(＝O)‑R^c、Z‑C(＝O)‑OR^d、Z‑C(＝O)‑NR^eR^f、Z‑NR^gR^h、Z‑苯基和Z‑杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同的基团R'取代；R¹选自Z¹‑氰基、卤素、硝基、C₁‑C₈烷基、C₂‑C₈链烯基、C₂‑C₈炔基、C₁‑C₈卤代烷基、C₁‑C₈烷氧基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、Z¹‑C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄烷硫基‑C₁‑C₄烷基、Z¹‑C₁‑C₄烷硫基‑C₁‑C₄烷硫基、C₂‑C₆链烯氧基、C₂‑C₆炔氧基、C₁‑C₆卤代烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷基、Z¹‑C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基、Z¹‑S(O)_k‑R^1b、Z¹‑苯氧基和Z¹‑杂环氧基，其中杂环氧基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的氧键合3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯氧基和杂环氧基中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同基团R¹¹取代；R²、R³相同或不同且独立地选自氢、卤素、Z²‑OH、Z²‑NO₂、Z²‑氰基、C₁‑C₆烷基、C₂‑C₈链烯基、C₂‑C₈炔基、Z²‑C₃‑C₁₀环烷基、Z²‑C₃‑C₁₀环烷氧基，其中上述两个基团中的C₃‑C₁₀环烷基未被取代或者部分或完全被卤代，C₁‑C₈卤代烷基、Z²‑C₁‑C₈烷氧基、Z²‑C₁‑C₈卤代烷氧基、Z²‑C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基、Z²‑C₁‑C₄烷硫基‑C₁‑C₄烷硫基、Z²‑C₂‑C₈链烯氧基、Z²‑C₂‑C₈炔氧基、Z²‑C₁‑C₈卤代烷氧基、Z²‑C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基、Z²‑(三‑C₁‑C₄烷基)甲硅烷基、Z²‑S(O)_k‑R^2b、Z²‑C(＝O)‑R^2c、Z²‑C(＝O)‑OR^2d、Z²‑C(＝O)‑NR^2eR^2f、Z²‑NR^2gR^2h、Z^2a‑苯基和Z^2a‑杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中Z^2a‑苯基和Z^2a‑杂环基中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R²¹取代；R⁴选自氢、卤素、氰基、硝基、C₁‑C₄烷基和C₁‑C₄卤代烷基；R⁵选自氢、卤素、氰基、硝基、C₁‑C₄烷基和C₁‑C₄卤代烷基；其中对于X²＝CR²，R²与R³一起或者若存在的话与R¹一起还可以形成稠合5、6、7、8、9或10员碳环或稠合5、6、7、8、9或10员杂环，其中稠合杂环具有1、2、3或4个选自O、S和N的杂原子作为环成员，其中稠合碳环和稠合杂环是单环或双环的且其中稠合碳环和稠合杂环未被取代或者带有1、2、3、4、5、6、7、8、9或10个基团R^q；n为0、1或2；k为0、1或2；R'、R¹¹、R²¹相互独立地选自卤素、NO₂、CN、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇卤代环烷基、C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₆烷氧基、C₁‑C₆卤代烷氧基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄烷硫基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷氧基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基和C₃‑C₇环烷氧基，或者两个邻位基团R'、R¹¹或R²¹一起可以形成基团＝O(氧代)；Z、Z¹、Z²相互独立地选自共价键和C₁‑C₄链烷二基；Z^2a选自共价键、C₁‑C₄链烷二基、O‑C₁‑C₄链烷二基、C₁‑C₄链烷二基‑O和C₁‑C₄链烷二基‑O‑C₁‑C₄链烷二基；R^a选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中上述两个基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或者部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；R^b、R^1b、R^2b相互独立地选自C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、苯基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；R^c、R^2c相互独立地选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中上述两个基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或者部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、苯基、苄基或杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基、苄基和杂环基未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；R^d、R^2d相互独立地选自C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中上述两个基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或者部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；R^e、R^f相互独立地选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中上述两个基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或者部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代，或者R^e、R^f与它们所键合的氮原子一起可以形成5、6或7员饱和或不饱和N‑键合杂环基团，所述杂环基团可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或者可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团；R^2e、R^2f相互独立地具有对R^e、R^f所给含义；R^g选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中上述两个基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或者部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；R^h选自氢、C₁‑C₆烷基、C₃‑C₇环烷基、C₃‑C₇环烷基‑C₁‑C₄烷基，其中上述两个基团中的C₃‑C₇环烷基未被取代或者部分或完全被卤代，C₁‑C₆卤代烷基、C₂‑C₆链烯基、C₂‑C₆卤代链烯基、C₂‑C₆炔基、C₂‑C₆卤代炔基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、基团C(＝O)‑R^k、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团取代；或者R^g、R^h与它们所键合的氮原子一起可以形成5、6或7员饱和或不饱和N‑键合杂环基团，所述杂环基团可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或者可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自＝O、卤素、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₄烷氧基和C₁‑C₄卤代烷氧基的基团；R^2g、R^2h相互独立地具有对R^g、R^h所给含义；R^k具有对R^c所给含义；R^q选自卤素、Z^q‑OH、Z^q‑NO₂、Z^q‑氰基、氧代(＝O)、N‑R^q1、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₂‑C₄链烯基、C₂‑C₄炔基、Z^q‑C₁‑C₄烷氧基、Z^q‑C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄烷硫基、C₁‑C₄卤代烷硫基、Z^q‑C₁‑C₄卤代烷氧基、Z^q‑C₃‑C₁₀环烷基、O‑Z^q‑C₃‑C₁₀环烷基、Z^q‑(三‑C₁‑C₄烷基)甲硅烷基、Z^q‑S(O)_k‑R^q2、Z²‑C(＝O)‑R^q3、Z²‑NR^q4R^q5和Z^q‑苯基，其中Z^q‑苯基中的苯基未被取代或者被1、2、3或4个相同或不同的基团R^q6取代；其中Z^q具有对Z所给含义之一；R^q1为C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄卤代烷氧基和C₃‑C₇环烷氧基，其未被取代或者部分或完全被卤代；R^q2具有对R^b所给含义之一；R^q3具有对R^c所给含义之一；R^q4、R^q5相互独立地具有对R^g、R^h所给含义之一；R^q6具有对R'所给含义之一。